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半導体微細化の命運を握る：High NA EUV対応「MOR」で日本勢がフォトレジスト支配を固める

生成AI市場拡大に伴い、半導体微細化競争が加速。日本勢が世界シェア約9割を占めるフォトレジストは、High NA EUV時代に対応するため、次世代素材「MOR（金属酸化物レジスト）」へのシフトが不可欠となった。東京応化工業などを中心に、日本企業はグローバル生産体制と技術優位性維持のため、戦略的投資を加速。この重要物資が、2nmノード以下の高性能チップ生産の命運を握る。