2025年12月22日、今年も残すところあとわずかとなりましたが、スポーツ界からエンタメ、政治まで、日本中を揺るがす大きなニュースが次々と飛び込んできました。
まずスポーツ界では、年末年始の風物詩であるプロ野球の契約更改や去就に大きな注目が集まっています。ヤクルトの村上宗隆選手がシカゴ・ホワイトソックスと2年契約で合意しました。あえて短期契約を選び、2年後のFA市場での価値向上を狙う戦略的なメジャー挑戦となります[1]。一方、楽天の守護神・則本昂大投手も涙ながらにメジャー挑戦を表明。35歳にしてマイナー契約も辞さない覚悟を見せています[31]。また、大相撲では豊昇龍が第74代横綱に昇進することが決定し、新時代の幕開けを感じさせています[75]。
お笑い界では、昨日開催された「M-1グランプリ2025」の余韻が冷めやりません。過去最多1万1521組の頂点に立ったのは、精緻な会話漫才を武器にした「たくろう」でした[19][23]。3位に食い込んだ「エバース」の佐々木隆史選手は、元高校球児という異色の経歴を活かしたネタで脚光を浴びています[24][70]。一方で、昨年の準優勝コンビ・バッテリィズ[68]や決勝常連のマユリカ[28]が今大会を戦略的に不参加とするなど、賞レースに依存しない新しい芸人の生き方も目立っています。
芸能界に目を向けると、明暗の分かれるニュースが並びました。女優の広末涼子氏が、時速約185キロの速度超過による追突事故で略式起訴されました。同乗者が重傷を負う事態に、復帰への道は険しさを増しています[4]。一方、モデルの藤井サチ氏は結婚式の写真を初公開し、幸せな姿を披露[14]。また、還暦を迎えた本木雅弘氏[59]や山口智子氏[43]、引退から45年を経た今も愛される山口百恵さん[3]など、レジェンドたちの円熟味を増した現在の姿が話題を呼んでいます。
生活に直結するニュースも欠かせません。年末の帰省ラッシュを前に、JR外房線では竹木との衝突事故が発生し、ダイヤが乱れる事態となりました[2]。これからの時期、お出かけには最新の運行情報の確認が必須です。また、これからの家づくりを考える方には、金利上昇や災害リスクに対応した「2025年版持ち家購入の新常識」が注目されており[9]、車市場ではトヨタ・ルーミーの待望のハイブリッド化が来秋に控えているとの朗報も届いています[76]。
文化・エンタメシーンでは、劇場版『ハイキュー!!』が世界興収200億円を突破し、2027年の続編製作が決定[49]。アニメ『チェンソーマン』の新章製作も発表され、世界中のファンが歓喜しています[55]。また、冬至の恒例行事である「ゆず湯」の話題も聞こえてくるなど、慌ただしい師走の中にも日本の四季を感じさせる一日となりました[66]。
緊迫する国際情勢では、ウクライナのゼレンスキー大統領が米主導の和平交渉への参加を表明しましたが、領土問題を巡りトランプ政権との間に深い溝があることが浮き彫りとなっています[72]。国内政治でも、NHK「日曜討論」において台湾有事や武器輸出を巡り、与野党が真っ向から対立する激しい論戦が繰り広げられました[11][62]。
以上、2025年12月22日の主なニュースをまとめてお伝えしました。
半導体微細化の命運を握る：High NA EUV対応「MOR」で日本勢がフォトレジスト支配を固める
ニュース要約: 生成AI市場拡大に伴い、半導体微細化競争が加速。日本勢が世界シェア約9割を占めるフォトレジストは、High NA EUV時代に対応するため、次世代素材「MOR（金属酸化物レジスト）」へのシフトが不可欠となった。東京応化工業などを中心に、日本企業はグローバル生産体制と技術優位性維持のため、戦略的投資を加速。この重要物資が、2nmノード以下の高性能チップ生産の命運を握る。
フォトレジスト、先端半導体の命運握る：High NA EUV対応「MOR」が主役に、日本勢の戦略的投資が加速
2025年12月3日
生成AI市場の爆発的な拡大を背景に、半導体の微細化競争はかつてない速度で進んでいる。この最前線において、不可欠な戦略物資として注目を集めているのが、日本企業が世界市場の約9割を支配する感光性材料、フォトレジストだ。特に極端紫外線（EUV）露光技術に対応する次世代フォトレジストの開発は、2nmノード以下の高性能チップ生産の成否を握る鍵となっている。
High NA EUV時代到来と新素材「MOR」へのシフト
半導体製造の心臓部である露光工程は、現在、大きな技術転換期を迎えている。2025年、ASML社製の「High NA（高開口数）EUV露光装置」が本格的に量産導入される見通しだ。この新装置は、従来のNA=0.33から0.55へと開口数を拡大し、解像度を約1.7倍に向上させる。これにより、高性能チップのパターン形成における多重露光が不要となり、微細化とコスト削減の両立が期待されている。
しかし、High NA EUVの導入は、従来の化学増幅型レジスト（CAR）の限界を露呈させた。そこで、次世代の主役に躍り出たのが「MOR（金属酸化物レジスト）」である。
MORは、EUV光の吸収率や、エッチング耐性が高く、極めて微細なパターン形成に適している。日本の材料メーカーは、このMORの実現に向け、金属錯体技術を応用した開発競争を加速させている。ADEKA（アデカ）は2025年10月、MOR用金属化合物の新プラントを建設するなど、次世代フォトレジスト材料への投資を積極化している。この技術革新は、HBM（高帯域メモリ）や最先端ロジック半導体のさらなる半導体微細化を可能にする不可欠な要素とされる。
EUVフォトレジスト市場は、2024年時点で3億1400万米ドル規模だが、2031年には14億900万米ドルへ、年平均成長率（CAGR）23.8%で急成長すると予測されており、材料ベンダーの技術力が、世界の半導体競争力を左右する構図が鮮明になっている。
日本勢の圧倒的支配とグローバル生産体制の強化
フォトレジスト市場における日本勢の存在感は圧倒的だ。東京応化工業、JSR、信越化学、住友化学、富士フイルムなどの主要企業が世界シェアの約90%を占める。特に東京応化工業は、EUVフォトレジストを含む全体市場で世界シェア約25%を確保し、トップランナーとして君臨している。
この技術的優位性を背景に、日本企業は世界的な需要急増とサプライチェーンの安定化を図るため、大規模な設備投資を加速させている。
東京応化工業は、韓国子会社を通じて平澤に新工場（2拠点目）を建設し、現地需要への対応力を強化。住友化学も、大阪工場で先端フォトレジストの評価設備を拡充するほか、韓国や米国での製造ライン増設にここ数年で1,000億円規模を投じる。また、富士フイルムも2025～2026年度の2年間で1,000億円以上を設備投資と研究開発に投入するなど、各社が国内の技術開発基盤を固めつつ、アジア主要市場での生産拠点分散を進めている。
経済安全保障上の「特定重要物資」
フォトレジストは、その圧倒的な技術的優位性ゆえに、地政学的リスクが高まる現代において、経済安全保障上の「特定重要物資」として位置づけられている。
日本政府は、半導体・デジタル産業戦略を推進する中で、フォトレジスト技術の流出防止を喫緊の課題としている。外為法に基づく輸出管理は厳格化され、特にAIや半導体関連技術の海外移転については、事前報告制度や官民対話スキームが構築されている。
2019年の対韓輸出管理強化の経緯からも明らかなように、フォトレジストの供給体制は国際的な貿易摩擦の火種となり得る。そのため、日本企業は技術優位性を維持しつつ、国際的な安定供給責任を果たすという、難しい舵取りを迫られている。
結論：材料ベンダーの挑戦が未来を拓く
フォトレジストの純度、分子設計、そして微細な異物や金属不純物の検査技術の高度化は、半導体製造の歩留まりに直結する。今後、High NA EUVとMORの組み合わせにより、2nmノードの次世代チップ生産が加速する中で、日本のフォトレジスト材料ベンダーの技術革新こそが、世界のデジタルインフラと半導体微細化の未来を拓く鍵となるだろう。国際競争力を維持するためにも、政府と産業界の連携による技術基盤の強化が引き続き求められる。